Reinigungsprozesse (nasschemisch/trocken) für optische und mechanische Komponenten samt korrespondierenden Reinigungsanlagen entwickeln und in die Serienfertigung überführen

die prozesstechnische Weiterentwicklung von Reinigungsprozessen intern sowie bei Lieferanten bezüglich der Sauberkeitsanforderungen der EUV- und DUV-Lithographie verantworten

bereits etablierte chemische und physikalische Reinigungsprozesse betreuen und weiterentwickeln, sowie kontinuierlich Optimierungspotentiale bei den internen und externen Reinigungsprozessen identifizieren

die Untersuchung von Oberflächen auf organische, molekulare und partikuläre Kontaminationen anhand analytischer Methoden kontinuierlich weiterentwickeln

die Verantwortung einzelner Arbeitspakete übernehmen und hinsichtlich Timing, Kosten und Performance koordinieren und dem Projektmanagement regelmäßig berichten

im Trouble-Shooting-Fall die interne Fertigung fachlich unterstützen und extern bei Reinigungsdienstleistern und Lieferanten Prozessabweichungen systematisch abstellen

ein erfolgreich abgeschlossenes Studium der Chemie, Physik oder vergleichbar und/oder relevanter Kenntnisse auf dem Gebiet von Reinigungsprozessen als auch der Oberflächenanalytik (XPS, Restgasanalyse, AFM, TOF-SIMS)

Erfahrungen auf dem Gebiet von Reinigungsverfahren (Prozesse u./o. Prozesshilfsstoffe) in der industriellen Umgebung

Erfahrungen in der technologischen Zusammenarbeit mit Anlagenbauern

ein hohes Maß an Team- und Kooperationsfähigkeit

eine ausgeprägte Hands-on Mentalität sowie ein souveränes Auftreten

sehr gute Deutsch- und Englischkenntnisse in Wort und Schrift

Wenn Sie mehr über diese Stelle erfahren möchten, wenden Sie sich bitte an die zuständigen Recruiter: Miriam Meyer (miriam.meyer@zeiss.com) und Oliver Reith (oliver.reith@zeiss.com)

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