Unternehmensbeschreibung

Möchten Sie Ihre Ideen in nutzbringende und sinnvolle Technologien verwandeln? Ob im Bereich Mobility Solutions, Consumer Goods, Industrial Technology oder Energy and Building Technology – mit uns verbessern Sie die Lebensqualität der Menschen auf der ganzen Welt. Willkommen bei Bosch.

Die Robert Bosch Semiconductor Manufacturing Dresden GmbH freut sich auf Ihre Bewerbung!

StellenbeschreibungAls Senior Engineer Design to Mask Preparation verantworten Sie den Prozess, welcher notwendig ist, um ein externes Chip Design den internen Fertigungsgegebenheiten anzupassen.In Zusammenarbeit mit Schnittstellen, wie Design, Layout, Metrologie, Defektdichte, Lithographie, Test und weiteren, erstellen Sie Maskendaten, welche die Anforderungen einer hochautomatisierten Fertigungsumgebung erfüllen.Sie verantworten die Tape-Out Koordination und Datenvorbereitung zur Fotomasken Fertigung.Dies umfasst die Erstellung und Anpassung  fertigungsspezifischer Baugruppen, die automatisierte Frame Generierung zur Anordnung der Chips und Platzierung fertigungsspezifischer Ergänzungen im Ritzrahmen entsprechend der Prozessregeln sowie der Datenaufbereitung inkl. Pattern Generierung und Kompensation von Prozesseffekten.Dafür nutzen Sie eine bestehende Codebasis für automatisierte Design to Mask Prozesse, programmieren weitere Automatisierungen und nehmen notwendige Anpassungen und Optimierungen vor.

QualifikationenAusbildung: erfolgreich abgeschlossenes Hochschulstudium in einem naturwissenschaftlichen FachgebietErfahrungen und Know-how: mehrjährigige einschlägige Berufserfahrung, grundlegendes Verständnis von Halbleiter Design und Technologie; Praktische Erfahrung in der Anwendung von Electronic Design Automation Software; Kenntnisse in Unix-/Linux Betriebssystemen, Programmierung und Datenbank Anwendung; Erfahrung in der Automatisierung wiederkehrender Aufgaben; Kenntnisse in objektorientierter Programmierung; Erfahrungen im Frame Design und Layoutverifikation (DRC/LVS); EDA Tool Kenntnisse (Virtuoso, Calibre); Programmierkenntnisse in C, shell scripting, svrf, python, Tcl/Tk, ruby oder vergleichbare; Kenntnisse in der Pattern Generierung und Kompensation von Prozesseffekten (z.B. OPC Korrektur lithografischer Abbildungsfehler)Persönlichkeit: begeisterungsfähig, teamfähig, kommunikationsstarkArbeitsweise: strukturiert, eigenverantwortlich, ergebnisorientiertSprachen: sehr gute Deutsch- und Englischkenntnisse in Wort und Schrift

Zusätzliche Informationen

Sie haben Fragen zum Bewerbungsprozess?
Susanne Reinert (Personalabteilung)
+49 351 8547-2112

Sie haben fachliche Fragen zum Job?
Albrecht Kieslich (Fachabteilung)
+49 351 8547-3650